上海华力微电子取得隔振装置以及光刻设备专利，避免光刻设备宕机影响生产效率

金融界2024年11月19日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力微电子有限公司取得一项名为“隔振装置以及光刻设备”的专利，授权公告号 CN 222014626 U，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种隔振装置以及光刻设备，隔振装置包括：壳体、隔振组件以及垫片；壳体沿第一方向开放，用于供主体框架沿第一方向伸入壳体的内部；隔振组件的一端与壳体的内壁连接，另一端与主体框架之间留有距离，用于在外部产生震动时与主体框架相接触，以支撑主体框架并保证稳定；垫片设置于隔振组件与壳体的内壁之间，用于减小隔振组件与主体框架之间的距离。如此配置，通过在隔振组件和壳体的内壁之间设置垫片，减小在外部未发生震动时隔振组件与主体框架之间的距离，使得在外部发生震动时，主体框架在发生较小位移后即与隔振组件相接触，避免出现主体框架因位移空间较大，导致干涉计失光，从而引起光刻设备宕机，影响生产效率的问题。

来源：金融界