上海华力微电子取得立式炉管装置专利，降低炉管内晶圆膜厚差异性

金融界2024年12月23日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力微电子有限公司取得一项名为“立式炉管装置”的专利，授权公告号CN 222182428 U，申请日期为2024年4月。

专利摘要显示，本实用新型提供了一种立式炉管装置，包括：外管，外管的一端封闭，外管的另一端开放；第一内管，第一内管的两端均开放，外管将第一内管罩设在内；第二内管，第二内管的两端均开放，第一内管套设于第二内管的外周，且第一内管的内周和第二内管的外周之间形成夹层空间，第二内管的轴向不同位置处设有孔洞；晶舟，其用于承载晶圆；底座，晶舟支撑在底座上，底座用于将晶舟送入第二内管中，并将外管开放的一端封闭。本实用新型通过第一内管和第二内管的设置，均匀了炉管内各处的反应气体浓度，从而降低了炉管内所有晶圆的膜厚差异性，并改善了单个晶圆的膜厚均一性，保证了产品性能的一致性，提高了产品良率，降低了报废率，进而节省了生产成本。

来源：金融界