上海盛剑微电子申请蚀刻液相关专利，能满足高精度加工要求

金融界2024年12月17日消息，国家知识产权局信息显示，上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“一种蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法”的专利，公开号CN 119121231 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本发明涉及金属蚀刻液技术领域，尤其是涉及一种蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法。本发明的蚀刻液，按照质量百分比计，包括如下组分：过氧化氢5wt％～10wt％、硝酸4～6wt％、过氧化氢稳定剂0.1wt％～5wt％、金属离子螯合剂0.1wt％～5wt％、金属缓蚀剂0.01wt～5wt％、氯代二苯碘鎓0.3wt％～0.5wt％，余量为水。本发明的蚀刻液中，过氧化氢含量低，不含氟离子；具有安全性高、稳定性好、蚀刻性能优异、能够满足高精度加工要求等优点；将其用于含有铜钛金属膜的蚀片的蚀刻中，能够实现均匀蚀刻，CD bias变化量在0.1μm以下，蚀刻CD和坡度角基本不变，表面金属无残留，无钛残留现象。

来源：金融界